霍尔离子源和考夫曼离子源的区别

1、霍尔离子源与考夫曼离子源的结构区别：霍尔离子源按阴极、壳体、阳极、气管、磁场顺序组成；而考夫曼离子源按照壳体、栅极、阳极、气管、阴极、磁场顺序组成。

2、霍尔离子源与考夫曼离子源的离子浓度区别：霍尔离子源为阳极电压的65%~70%；考夫曼离子源为阳极和栅极之间的电压差。

3、霍尔离子源与考夫曼离子源的特点区别：

霍尔离子源的特点：低能大束流，能流密度较大，发射角也较大，适合较大面积的生产使用，使用成本低，适合大规模生产使用；

考夫曼离子源的特点：高能低束流，能流密度较低，出射角度较小，适合于镀制较小面积的光学器件，使用成本高。